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日立开发机器学习半导体缺陷检测技术 可检出10nm及更小微缺陷

发布日期：2025-03-06     45 次

3月5日消息，日立当地时间2月27日称该企业已开发出了一种高灵敏度半导体缺陷检测技术，可通过机器学习的辅助检出10nm及更小尺寸的微缺陷。这项技术已在二月末的SPIE先进光刻与图案化2025学术会议上展出。

随着对高性能芯片的需求不断增加，半导体制造商对生产中的质量控制愈发重视；而制程的微缩也意味着能直接影响性能的缺陷尺寸门槛逐渐降低，对缺陷检测灵敏度的要求进一步提升。日立的这一技术就是在该背景下应运而生的。

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日立的机器学习缺陷检测技术主要包含两大部分，即图像重建对比和过度检测抑制：

图像重建对比：检测系统首先通过大量添加噪点的“人造”缺陷图像学习微缺陷的数据特征；实际使用时对扫描电镜照片尽量进行无缺陷版本重建，并对原始图像和重建图像进行对比，从而检出缺陷。

过度检测抑制：由于先进半导体制程的微缩，差异化功能电路和缺陷在图像上的区别逐渐模糊，而机器学习检测系统可对电路布局进行分类，并根据电路特征调整灵敏度，可减少90%的过度检测。


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