日本首台ASML EUV光刻机下月进驻Rapidus晶圆厂

11 月 15 日消息，《日本经济新闻》当地时间今日凌晨报道称，日本先进半导体代工企业 Rapidus 购入的第一台 ASML EUV 光刻机将于 2024 年 12 月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台 EUV 光刻设备。

根据 Rapidus 高管以往表态，该光刻机是较早期的 0.33 NA 型号，而非目前全球总量不足 10 台的 0.55 NA（High NA）款。

据悉本次整个空运任务将分多架次完成，新千岁机场还为这台对精度要求极高、不耐振动的“庞然大物”对机场颠簸不平的路面进行了重新铺设；此外 ASML 已在千岁市建设了客户服务中心，将支持该系统的接收。

▲ ASML 的 0.33 NA EUV 光刻机 NXE:3800E 

按 Rapidus 此前的规划，该公司定于 2025 年 4 月启动先进制程原型线，该产线将拥有包括 EUV 光刻机在内的共计 200 余台设备。根据千岁市当地政府的说法，Rapidus 的 IIM-1 晶圆厂截至上月底已完成 63% 的施工进度。

▲ IIM-1 晶圆厂概念图

除 Rapidus 外，日本未来还有至少两家晶圆厂将先后导入先进的 EUV 光刻机：

美光 1-gamma（IT之家注：即 1c nm）制程 DRAM 内存需使用 EUV，美光广岛工厂预计于 2025 年内导入 EUV 光刻设备为 2026 年的量产做准备；台积电控股子公司 JASM 预定 2027 年投产的第二晶圆厂包含 6nm 产线，也需要 EUV 机台。