• 我国科学家研制出世界首款类脑互补视觉芯片“天眸芯”
    发布日期:2024-05-31     118
    图为“天眸芯”。(清华大学精密仪器系供图)清华大学类脑计算研究中心团队近日研制出了世界首款类脑互补视觉芯片“天眸芯”,相关成果5月30日作为封面文章,发表于国际学术期刊《自然》。论文通讯作者、清华大学精密仪器系教授施路平介绍,在开放世界中,智能系统不仅要应对庞大的数据量,还需要应对如驾驶场景中的
  • 半导体封测之X射线如何保证半导体封装的可靠性?
    发布日期:2024-05-23     195
    半导体的生产流程主要分为制造、封装、测试等几个步骤。而集成电路封测行业包括封装和测试两个环节,封装为主,测试为辅。封装是保护芯片免受物理、化学等环境因素造成的损伤,增强芯片的散热性能,实现电气连接,确保电路正常工作。测试则是对芯片、电路等半导体产品的功能和性能进行验证的步骤,以筛选出有结构缺陷或者功
  • 台积电计划到2027年将特种工艺产能扩大50%
    发布日期:2024-05-22     149
    台积电在5月中旬举行的欧洲技术研讨会上透露,随着在德国和日本新建晶圆厂以及在中国台湾扩大产能,台积电计划到2027年将其特种工艺制程产能扩大50%。为实现这一目标,台积电不仅需要转换现有产能,还需要为此新建晶圆厂。台积电同时公布下一个特殊制程节点:N4e,一种4nm级超低功耗工艺节点。台积电业务发展暨海外运营处副
  • 比利时imec宣布牵头建设亚2nm制程NanoIC中试线,项目将获 25 亿欧元资金支持
    发布日期:2024-05-22     173
    5 月 21 日消息,比利时imec微电子研究中心今日宣布将牵头建设NanoIC 中试线。该先进制程试验线项目预计将获得共计 25 亿欧元(IT之家备注:当前约 196.5 亿元人民币)的公共和私人捐款支持。NanoIC 中试线是欧洲芯片联合企业 Chip JU 指定的四条先进半导体中试线项目之一,旨在弥合从实验室到晶圆厂的差
  • 瑞士Lumiphase公司开发出钛酸钡晶体硅光子芯片 将芯片数据吞吐量提高两倍
    发布日期:2024-05-10     168
    瑞士工程科技公司Lumiphase成立于2020年,该公司基于独特的光控制技术,将钛酸钡晶体集成至芯片的硅基板中,从而开发出一种全新的硅光子芯片,能将现有硅光子芯片的数据吞吐量提高两倍,使搭载这一芯片的光通信模块增效10倍。Lumiphase是苏黎世联邦理工学院和IBM研究中心的衍生公司,由Stefan Abel博士、Lukas Czornomaz、F
  • 十大半导体技术将彻底改变电子制造
    发布日期:2024-04-23     164
    在当今快节奏的数字时代,半导体技术是创新的支柱,推动着电子制造的发展。从对更小、更强大的处理器的不懈追求,到连接和计算范式的突破性进步,半导体行业不断突破可能的界限。以下是正在彻底改变电子制造的半导体技术:3nm工艺量产向 3nm 工艺技术的过渡标志着半导体制造的一个重要里程碑。当晶体管尺寸缩小至3纳米时,可
  • LG推进自研DC-Q AI芯片商用,计划部署到 46 款产品中
    发布日期:2024-04-15     442
    4 月 13 日消息,LG公司近日发布新闻稿,展示了旗下自主研发的本地(on-device)AI 芯片DQ-C,并计划部署到 8 个类别的 46 款产品中。这款 DQ-C 芯片主要用于家电内部系统,支持 AI 控制、驱动 LCD 屏幕、识别语音等等,该芯片由台积电的 28nm 工艺技术生产。LG 花了三年时间深入研发 DQ-C 芯片,该芯片于 2023
  • 半导体是什么?芯片为什么和半导体密不可分?为啥光刻机如此重要?(图解)
    发布日期:2024-04-09     194
    前段时间有人留言,想了解半导体究竟是什么,和导体绝缘体有什么关系?然后罗叔做了调查,发现大多数人,一听到半导体这个名字的时候,第一时间想到的就是半导体产业,但要他们说一下半导体到底是什么,又说不出个所以然。因此本篇视频就来给大家介绍,半导体的“前世今生”。半导体是什么?芯片为什么和半导体密不可分?为
  • AMD MI388X中国特供加速卡仍被禁卖
    发布日期:2024-04-09     157
    AMD的新一代GPU加速卡MI300A、MI300X具备了挑战NVIDIA的能强大力,当然没法卖给中国,为此AMD也打造了中国特供版,名字叫做MI09,但还是被美国政府认为性能太强而禁售。AMD在今年1月31日提交的一份文件中,出现了“MI388X”的名字,并承认同样无法卖给中国。显然,这是AMD为中国市场定制的又一款GPU加速卡产品,命名都这么贴
  • 详解ASML High-NA EUV光刻机
    发布日期:2024-03-27     333
    光刻机一直是半导体领域的一个热门话题。从早期的深紫外光刻机(DUV)起步,其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础;再到后来的极紫外光刻机(EUV)以其独特的极紫外光源和更短的波长,成功将光刻精度推向了新的高度;再到如今的高数值孔径光刻机(High-NA)正式登上历史舞台,进一步提升了光刻的精度和效率,为

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